New Facing Targets Sputtering 新対向ターゲット形スパッタリング技術

NFTS装置ラインアップ

基板回転式NFTS装置

基板回転式NFTS装置は小型真空槽周囲に小型プラズマ源を多数実装することでin-situによる多層成膜の検討が可能。 また、真空容器内に複数の基板フォルダーを設置することにより一度の真空引きにより複数のサンプルを形成できる基礎研究に適した実験装置。

インライン式NFTS装置

インライン式NFTS装置は基板を搬送させながら成膜を行うことにより基板に均一な薄膜を形成できる装置。基板搬送方向に複数のプラズマ源を設置することで、多層成膜が可能。研究開発から生産装置まで幅広く対応が可能な装置。

基板静止式NFTS装置

基板静止式NFTS装置は基板を静止した状態において、12インチまでの基板に対して均一な成膜が可能。 基板加熱機構を組み合わせることによりウェハ基板に対する低温結晶化の検討などに最適な装置。

ウェブ式NFTS装置

ウェブ式NFTS装置は成膜領域において冷却ドラムを必要とすることなく4～100 µm厚のプラスチックなどのフィルム基板への薄膜形成に最適な成膜装置。 シンプルなフィルム搬送系により操作性・メンテナンス性に優れ、15 cm幅の研究開発装置から1 m幅を超える量産装置まで対応可能。