New Facing Targets Sputtering 新対向ターゲット形スパッタリング技術

NFTSの特長　　

■ 対向ターゲット構造

・ 対向ターゲット間におけるプラズマ拘束
　→ 基板への高エネルギー粒子の抑制　　　　　　→　低ダメージ成膜
　→ 基板への大量の電子抑制（ジュール熱の抑制）→ 　低温成膜

■ ターゲット外縁部の磁石配置

・ ターゲット外縁部におけるプラズマ形成
　→ エロージョン領域の増加　　　　　　　　　　→　ターゲット利用効率の向上
　→ 大型ターゲットにおける均一なプラズマ形成　→　大型基板への対応可能

・ ターゲット冷却機構の改善
　→ 最大投入電力の増加　　　　　　　　　　　　→　成膜速度の向上
　→ 磁場形成磁石の劣化抑制　　　　　　　　　　→　装置の長期安定性向上

■ プラズマ源の箱型化

・真空槽とプラズマ源の分離
　→ 真空槽の小型化による装置全体の小型化を実現
　→ 装置の操作性・メンテナンス性の向上

▲NFTSプラズマ写真