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イオンビームスパッタによる成膜装置。成膜基板上でシャッタの移動速度を制御させる事で自転する基板の脱厚分布を制御し、多層膜を作製する。又、シャッタの移動速度は、パソコンよりパラメータを変更することで用意に出来る。
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固体試料に分子を照射し、散乱される気体分子の空間分布、速度分布等を測定する装置。分子線源質は差動排気されていて、ノズル・スキマー等が高精度に配置されている。
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